正畸头影测量分析是口腔正畸学中核心的诊断手段,通过拍摄X线头颅定位片（通常包括正位片和侧位片），在颅颌面结构上设定标志点，对骨骼、牙齿、软组织的形态、位置及相互关系进行二维定量测量与分析，为错颌畸形的诊断、治疗方案设计及疗效评估提供客观依据，其本质是将复杂的颅颌面结构转化为可量化的数据，结合临床检查实现精准正畸。
核心标志点与测量体系
头影测量的准确性依赖于标志点的精确定位,常用标志点分为颅底、上颌、下颌、牙列及软组织五类，颅底标志点如蝶鞍点（S，蝶鞍中心）、鼻根点（N，鼻额缝最前点），构成颅底参考平面（如SN平面，连接S与N，是颅颌测量的基准）；上颌标志点如上齿槽座点（A，上颌骨前壁与牙槽突最前点）、眶点（Or，眶下缘最低点），反映上颌骨位置；下颌标志点如下齿槽座点（B，下颌骨前壁与牙槽突最前点）、下颌角点（Go，下颌角后下最凸点）、颏下点（Me，颏部最前点），体现下颌骨形态及位置；牙列标志点如上中切牙点（UI，上中切牙切缘）、下中切牙点（LI，下中切牙切缘），用于评估牙齿倾斜度；软组织标志点如鼻根点（Ns，软组织鼻根点）、上唇突点（UL，上唇最前点）、下唇突点（LL，下唇最前点），关联面部美观。
基于这些标志点,测量项目可分为骨骼、牙齿、软组织三大类，以下为部分关键测量项目及其临床意义：
| 测量类别 | 测量项目 | 定义 | 正常范围 | 临床意义 |
|---|---|---|---|---|
| 骨骼测量 | SNA角 | 上颌骨与颅底的关系（SN平面与A点的夹角） | 82°±3° | >84°提示上颌前突，<80°提示上颌后缩 |
| SNB角 | 下颌骨与颅底的关系（SN平面与B点的夹角） | 80°±3° | >82°提示下颌前突，<78°提示下颌后缩 | |
| ANB角 | 上下颌骨相对位置（SNA-SNB） | 2°±2° | >4°提示骨性II类，<0°提示骨性III类 | |
| 面高比例（MP-FH） | 后面高（S-Go）与前面高（N-Me）的比值 | 65±0.05 | 比例增大提示下颌平面陡峭，可能影响垂直向控制 | |
| 牙齿测量 | UI-SN角 | 上中切牙与SN平面的夹角 | 105°±7° | >112°提示上颌前牙唇倾，<98°提示舌倾 |
| LI-MP角 | 下中切牙与下颌平面（MP）的夹角 | 95°±7° | >103°提示下颌前牙唇倾，<87°提示舌倾 | |
| UI-LI角 | 上下中切牙牙轴夹角 | 125°±8° | 角度减小提示“深覆颌”趋势，增大提示“开颌”趋势 | |
| 软组织测量 | 鼻唇角（Ns-UL-Prn） | 鼻小柱基部、上唇突点、鼻尖点的夹角 | 90°-100° | <90°提示上唇前突，影响侧貌美观 |
| 颏唇沟深度（Si-B'） | 下唇与颏部软组织凹陷深度 | 2-4mm | >4mm提示颏部后缩，可能伴随“凸面型” |
临床应用与价值
正畸头影测量分析贯穿正畸治疗全程,在诊断阶段，通过量化骨骼畸形（如骨性II类下颌后缩、III类上颌发育不足）、牙齿异常（如前牙深覆颌、后牙锁颌）及软组织不调（如唇突、颏后缩），明确错颌畸形的机制，区分“骨性问题”与“牙齿问题”，ANB角负值伴SNB角减小提示骨性III类畸形，可能需要正畸-正颌联合治疗；而ANB角正常但UI-SN角过大，则可通过单纯正畸（如内收上前牙）改善。
治疗设计中,头影测量是制定方案的关键依据，对于拔牙病例，通过测算 Bolton指数（牙量大小比例）判断是否需要拔牙，结合牙弓长度分析决定拔牙数目；对于骨性II类患者，通过测量下颌平面角（MP-FH）选择矫治器（如高角病例避免使用口外弓，以防加重开颌趋势）；对于成人患者，通过评估牙根位置（如根尖片结合头影测量）避免牙根吸收风险。
治疗后,头影测量可客观评价疗效：对比治疗前后SNA、SNB角变化，判断骨骼改建程度；测量UI-SN角、LI-MP角，评估牙齿移动的准确性；分析鼻唇角、颏唇沟深度，验证侧貌改善效果，拔牙病例治疗后ANB角应趋于正常，UI-LI角应恢复至正常范围，软组织侧貌协调。
技术发展与局限
随着数字化技术发展,传统手工定点测量的方式逐渐被计算机软件取代（如Dolphin、Vceph等），实现自动定点、数据计算及三维重建，提高了效率与准确性，锥形束CT（CBCT）的应用弥补了二维头影测量的不足，可三维评估牙根位置、颞下颌关节及骨皮质厚度，为复杂病例（如埋伏牙牵引、正颌手术）提供更全面信息。
但头影测量仍存在局限：二维图像无法完全反映颅颌面的三维结构；标志点定位依赖医生经验，存在主观误差；软组织测量受肌肉张力、软组织厚度影响较大，需结合临床动态观察，头影测量需与临床检查、模型分析、患者面部美学评估结合，才能实现个体化精准正畸。
FAQs
Q1：正畸头影测量分析对所有人都有必要吗？
A1：并非所有正畸患者都需要头影测量分析，对于简单的错颌畸形（如轻度牙列拥挤、个别牙反颌），通过临床检查、模型分析及口内片即可制定方案；但对于复杂病例（如骨性II/III类畸形、严重开颌/深覆颌、成人正畸、正畸正颌联合治疗），头影测量是明确诊断、设计治疗方案、预测疗效的必要手段，可避免治疗失误。
Q2：头影测量检查的辐射大吗？安全吗？
A2：常规X线头颅定位片的辐射剂量较低（约0.02mSv），相当于乘坐飞机2小时所受的宇宙射线辐射，远低于一次胸部CT（约7mSv），正畸医生会严格掌握适应症，仅在必要时进行检查，且采用铅衣防护（ shielding甲状腺等敏感部位），对健康风险极低，相比其诊断价值，辐射风险远小于获益，患者无需过度担忧。
