在正畸诊断与治疗中，腭平面（Palatal Plane，PP平面）与下颌平面（Mandibular Plane，MP平面）是头影测量分析的核心参考平面，二者共同构成评估颌骨位置、牙齿排列及面部垂直向比例的重要依据。
PP平面通常由前鼻棘（Anterior Nasal Spine，ANS）与后鼻棘（Posterior Nasal Spire，PNS）的连线构成，代表了上颌骨的基准平面，ANS位于上颌骨腭突的前方最突点，PNS则位于蝶骨翼突与腭骨的连接处，二者连线基本反映了上颌骨的垂直向高度和前后向位置，由于上颌骨在生长发育完成后相对稳定，PP平面常作为颅颌面部固定的参考平面，用于评估上颌牙齿的垂直向位置（如上颌磨牙伸长或压低程度）以及上颌骨与颅底的关系。
MP平面则主要由下颌骨下缘的解剖点构成，经典定义为颏下点（Menton，Me）与下颌角点（Gonion，Go）的连线，Me是下颌骨颏部最下点，Go则是下颌升支与下颌体的交点（下颌角），二者连线反映了下颌骨下缘的倾斜方向，是判断下颌生长方向与垂直向发育的关键指标，MP平面的倾斜度直接影响面部下1/3的高度：若MP平面较平缓（下颌平面角小），提示垂直向发育不足（短面型）；若MP平面陡峭（下颌平面角大），则提示垂直向发育过度（长面型）。
在临床应用中，PP平面与MP平面的关系主要通过“PP-MP角”来体现，即两平面在颅底平面（FH平面）上的夹角，该角度的正常范围约为20°-25°，若角度增大，提示上下颌骨垂直向不调，可能伴随下颌平面角增大（高角病例）；若角度减小，则可能为垂直向骨性反颌或短面型，通过测量PP平面与MP平面分别到特定牙齿的距离（如上颌第一磨牙牙尖到PP平面的距离、下颌第一磨牙牙尖到MP平面的距离），可评估牙齿的垂直向萌出状态，指导正畸治疗中的压低或伸长设计。
为更直观理解，现将两平面的核心信息总结如下：
| 平面名称 | 构成点 | 解剖标志 | 临床意义 | 常用测量指标 |
|---|---|---|---|---|
| PP平面 | ANS-PNS | 上颌腭突前、后最突点 | 反映上颌骨垂直向高度，作为上颌牙齿垂直向参考 | PP-FH角（与颅底平面夹角） |
| MP平面 | Me-Go | 下颌颏部最下点、下颌角点 | 判断下颌生长方向，评估垂直向发育类型（高角/低角/均角） | MP-FH角（下颌平面角） |
正畸治疗中，对PP与MP平面的调控需结合患者具体问题：在高角病例中，需避免过度打开咬合（防止下颌平面角进一步增大），可通过种植支抗压低上颌磨牙或使用前牙垂直向控制技术；在短面型患者中，则需谨慎设计伸长方案，防止颞下颌关节负荷过大，青少年患者需定期追踪两平面的变化，通过生长改良治疗（如功能性矫治器）引导下颌骨向正常方向发育，避免骨性畸形加重。
相关问答FAQs
Q1：PP-MP角增大或减小分别代表什么临床意义？
A：PP-MP角是PP平面与MP平面的夹角，正常范围约20°-25°，若角度增大（＞25°），提示上下颌骨垂直向不调，常伴随下颌平面角增大（高角病例），表现为面部中下1/3比例过长、可能伴有深覆颌或开颌倾向；若角度减小（＜20°），则可能为垂直向发育不足（短面型），表现为面部中下1/3过短、咬合较深，需警惕骨性反颌或颞下颌关节适应性问题。
Q2：正畸治疗中如何通过调整PP或MP平面改善咬合？
A：调整PP平面主要通过压低或伸长上颌后牙实现：使用种植支抗钉压低上颌磨牙，可减小PP平面的倾斜度，改善高角病例的咬合；对于MP平面，可通过前牙垂直向控制（如使用平面导板）抑制下颌平面顺时针旋转，或通过功能性矫治器（如Activator）引导下颌骨逆时针旋转，改善低角病例的面部高度，具体方案需结合患者骨面型、牙齿代偿情况及生长发育阶段综合设计。
